鏡面拋光直接取決于光潔度的高低，直接解譯為像鏡面一樣光潔，Ra0.2以下等
鏡面拋光分成機(jī)械鏡面拋光和化學(xué)溶液鏡面拋光。在這里海德研磨與大家分享的主要是機(jī)械鏡面拋光，所使用的設(shè)備是平面拋光機(jī)。
機(jī)械鏡面拋光是在金屬材料上經(jīng)過磨光工序(粗磨、細(xì)磨)和拋光工序(WENDT三步拋光)從而達(dá)到平整、光亮似鏡面般的表面。
鏡面拋光加工工藝
一、研磨工序
研磨的目的是為了獲得平整光滑的磨面。此時磨面上還留有極細(xì)而均勻的磨痕。研磨分為粗磨和精磨兩種。
1.粗磨 粗磨是將粗糙的表面和不規(guī)則外形修正成形。
2.精磨 經(jīng)過粗磨后金屬表面尚有很深的磨痕，需要在細(xì)磨中消除，為拋光做準(zhǔn)備。
二、鏡面拋光工序
拋光工序是為了獲得光亮似鏡的表面加工過程。多數(shù)采用拋光輪來反復(fù)磨光后的零件表面上極微小的不平，通用于鍍層表面的修飾。
拋光是鍍層表面或零件表面最后—道工序，其目的是要消除在磨光工序后還殘留在表面上的細(xì)微磨痕。理想的拋光面應(yīng)該是平整、光亮、無痕、天浮雕、無坑、無金屬擾亂層的似鏡面狀態(tài)的表面。經(jīng)過研磨與拋光后的磨面變化。
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